In-Situ OPM
直接光控
主要特性 (解决方案)
01 石英晶体测量沉积质量。
02 光学监测测量真正的光学厚度。
03 光学监控中固有的错误补偿,薄膜堆叠错误会随着层厚度和复杂性的增加而减少。