01采用磁悬浮分子泵与深冷冷阱快速获得高质量真空，VAT可调开口的闸阀、精确控制反应室气压。

02 溅射室标准装备2种平面阴极靶材，最多4种靶材可以装备。

03 微波感应激励产生等离子体，较高的离子密度和更强的反应活性，使介质膜的快速沉积成为可能。

04 装置采用金属溅射加后氧化模式，成膜速率稳定，膜厚可采用时间控制、水晶膜厚控制以及直接光学膜厚控制等三种模式选择。

05 可双靶同时溅射制作合金膜的中间折射率膜，大幅提高了复杂光学膜系设计的自由度。

06 可以进行氮化物或氮氧化合物的镀膜，拓展了光学薄膜的特性。