01 设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低。

02 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等。

03 镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等。

04 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。