NWPAS - 1100

微波辅助磁控溅射机

主要特性

01 设备可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低。

02 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等。

03 镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等。

04 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

规格

型号 NWPAS - 1100
真空腔体 Ø1100 x 780mm
工件盘尺寸 Ø975 x 555mm
水晶膜厚计 Inficon IC6
蒸发源 中频平面阴极靶 *4
辅助源 微波系统
排气系统 旋片泵 + 罗茨泵 + 分子泵 + polycold

性能

项目 内容
极限真空 ≦7.0 × 10⁻⁵Pa
恢复真空 ≦20min
最大烘烤温度 ≦150℃

安装要求

项目 内容
设备尺寸 6500(W) x 7500mm(D) x 3500mm(H)
所需电力 ≈75KVA
所需冷却水流量 ≧1200L / min
所需空气压力 ≧0.5MPa
总重量 ≈7000Kg