近日，嘉森真空科技正式发布全新MPAS-600 磁控溅射镀膜设备，以高稳定性、高兼容性与自动化控制能力，为泛半导体、光学器件等领域提供高效、可靠的薄膜制备解决方案。

设备核心亮点 

1.高效排气与高真空保障： 采用干泵 + 分子泵 + 低温捕集泵组合，9 小时内可达到 8.0×10⁻⁹Pa 极限真空，实现高效排气与洁净镀膜环境。

2.多靶材兼容与工艺灵活性： 溅射室支持最多四个阴极靶材，适配圆形靶材，兼容直流、射频、中频等多电源输入，可同时溅射多种不同材料。  

3.工艺优化与质量提升： 采用射频辅助溅射激发氧活化，搭配霍尔离子源实现衬底表面清洗，显著提升薄膜质量与性能；石英晶体监控精准控制沉积速率，减少误判，提升工艺可靠性。  

4.自动化与智能化控制 配备独立进样室与全自动控制软件，实现全流程自动化镀膜，数据可追溯；PID 控温系统支持最高 400℃加热，温度均匀性控制在 ±5℃以内。

5.适配多尺寸基板需求 可装载 4-12 英寸圆片基板，可选配自动进样装置，满足量产与研发场景的多样化需求。

MPAS-600 磁控溅射镀膜设备的推出，进一步完善了嘉森真空科技的高端镀膜设备产品线。未来，我们将持续深耕真空镀膜技术，为客户提供更优质的产品与服务。

嘉森真空科技有限公司 2025年05月16日